Рефераты | Промышленность, производство | Литография | страница реферата 12 | Большая Энциклопедия Рефератов от А до Я
Большая Энциклопедия Рефератов от А до Я
  • Рефераты, курсовые, шпаргалки, сочинения, изложения
  • Дипломы, диссертации, решебники, рассказы, тезисы
  • Конспекты, отчеты, доклады, контрольные работы

  • 2

    Общий балл

    26

    28

    30

    33

    32

    32

    26

    23

    26

    Место

    4

    3

    2

    1

    1

    1

    4

    5

    4

    Условные обозначения к табл. 5.

    I

    Контакт с зазором

    II

    1/1 УФ-сканер

    III

    4/1 УФ-сканер/степпер

    IV

    5/1 УФ-степпер

    V

    10/1 УФ-степпер

    VI

    Электронный луч

    VII

    Рентгеновское излучение

    VIII

    Ионный луч

    IX

    Электронный пучек с зазором

    Ключем к высокопроизводительной литографии являются высококачественные стойкие шаблоны, которые способны выдерживать термические и механические напряжения. Выбор вида излучения (широкие пучки УФ-излучения, рентгеновского излучения, электронов или ионов) для экспонирования через шаблон, зависит в основном от трех факторов:

    1) может ли быть изготовлена маска с резкостью края лучше чем 1/10 воспроизводимого размера;

    2) обеспечивается ли достаточная плоскостность шаблона и сохраняются ли она, а также рисунок неизменными во время экспонирования:

    3) может ли быть разработана такая схема совмещения, в которой различались бы длины волн экспонирования и совмещения.

    Техника изготовления шаблонов даст толчек развитию новых резистов и процессов.

    Уменьшение глубины фокуса в оптической литографии требует применения более плоских пластин, автофокусировки и автосовмещения. Для уменьшения ошибок совмещения и фокусировки необходимо применять низкотемпературные процессы, в которых меньше коробление пластин, и планировать конструкцию изготовляемых приборов. Для субмикронной литографии необходимо последовательное совмещение от кристалла к кристаллу. Установки, в которых совмещены принципы сканирования и пошагового экспонирования, будут развиваться исходя из требования на совмещение.


    Рекомендуем скачать другие рефераты по теме: где диплом, курсовик.



    Предыдущая страница реферата | 3  4  5  6  7  8  9  10  11  12  13 |




    Поделитесь этой записью или добавьте в закладки

       




    Категории:



    Разделы сайта




    •