Литография
Категория реферата: Промышленность, производство
Теги реферата: правовые рефераты, реферат
Добавил(а) на сайт: Javorov.
Предыдущая страница реферата | 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 | Следующая страница реферата
2
|
2 |
||||||||
Общий балл |
26 |
28 |
30 |
33 |
32 |
32 |
26 |
23 |
26 |
Место |
4 |
3 |
2 |
1 |
1 |
1 |
4 |
5 |
4 |
Условные обозначения к табл. 5.
I |
Контакт с зазором |
II |
1/1 УФ-сканер |
III |
4/1 УФ-сканер/степпер |
IV |
5/1 УФ-степпер |
V |
10/1 УФ-степпер |
VI |
Электронный луч |
VII |
Рентгеновское излучение |
VIII |
Ионный луч |
IX |
Электронный пучек с зазором |
Ключем к высокопроизводительной литографии являются высококачественные стойкие шаблоны, которые способны выдерживать термические и механические напряжения. Выбор вида излучения (широкие пучки УФ-излучения, рентгеновского излучения, электронов или ионов) для экспонирования через шаблон, зависит в основном от трех факторов:
1) может ли быть изготовлена маска с резкостью края лучше чем 1/10 воспроизводимого размера;
2) обеспечивается ли достаточная плоскостность шаблона и сохраняются ли она, а также рисунок неизменными во время экспонирования:
3) может ли быть разработана такая схема совмещения, в которой различались бы длины волн экспонирования и совмещения.
Техника изготовления шаблонов даст толчек развитию новых резистов и процессов.
Уменьшение глубины фокуса в оптической литографии требует применения более плоских пластин, автофокусировки и автосовмещения. Для уменьшения ошибок совмещения и фокусировки необходимо применять низкотемпературные процессы, в которых меньше коробление пластин, и планировать конструкцию изготовляемых приборов. Для субмикронной литографии необходимо последовательное совмещение от кристалла к кристаллу. Установки, в которых совмещены принципы сканирования и пошагового экспонирования, будут развиваться исходя из требования на совмещение.
Рекомендуем скачать другие рефераты по теме: где диплом, курсовик.