Ионный источник Кауфмана
Категория реферата: Рефераты по технологии
Теги реферата: шпоры на пятках, 1 класс контрольная работа
Добавил(а) на сайт: Карданов.
1 2 3 4 5 | Следующая страница реферата
МОСКОВСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ ИНСТИТУТ
СТАЛИ И СПЛАВОВ
(ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ)
РЕФЕРАТ
Ионный источник Кауфмана
Студент:
Преподаватель: .
Научный руководитель:
Москва 1999
СОДЕРЖАНИЕ
ВВЕДЕНИЕ 3
1. Oсновные параметры плазменных ионных источников 4
2. принцип действия и основные эксплуатационные особенности источника
Кауфмана 7
3. Модификации источника Кауфмана и тенденции его развития 12
4. Применение ионных источников в технологии 13
заключение 16
СПИСОК ИСПОЛЬЗОВАННЫХ ИСТОЧНИКОВ 18
ВВЕДЕНИЕ
Ионные источники – устройства для получения направленных потоков
ионов. Ионные источники применяются в ускорителях, масс-спектрометрах, ионных микроскопах, установках разделения изотопов, ионных ракетных
двигателях. Быстро расширяющаяся область технологических применений
источников ионов - это оборудование ионно-лучевой обработки материалов
(операции финишной очистки поверхности ИС, имплантации, распыление
металлических и диэлектрических материалов, травление микроструктур и т.д.
)
Существует несколько способов генерации ионных пучков: генерация
ионных пучков путем бомбардировки поверхности твердого тела потоком атомов
(поверхностная ионизация), исследовательских установках применяют источники
с ионизацией атомов на разогретой поверхности твердых тел и т.д.
Однако, наиболее перспективный способ генерации ионных потоков основан на извлечении ионов из плазмы. Газоразрядная плазма является эффективным эмиттером свободных ионов. Следует отметить, что именно плазменные ионные источники нашли широкое применение в различных областях научных исследований и в современном технологическом промышленном оборудовании.
В настоящей работе рассмотрен плазменный ионный источник - источник
Кауфмана, применяемый в технологии микроэлектроники и имеющий широкие
перспективы развития. В первой главе рассмотрены основные параметры ионных
источников. Далее рассмотрен конкретно источник Кауфмана и применение
ионных источников в технологии микроэлектроники.
1. Oсновные параметры плазменных ионных источников
Основными конструктивными элементами плазменных источников ионов являются: разрядная камера;
катодный узел;
Рекомендуем скачать другие рефераты по теме: реферат мова, решебник 6 класс, древний египет реферат.
1 2 3 4 5 | Следующая страница реферата