Предыдущая страница реферата | 1  2  3  4  5

5. Борн М., Вольф Э. Основы оптики: Пер. с англ. - М.: Наука,
1970.- 855 с.

6. Броудай И., Мерей Дж. Физические основы микротехнологии /

Пер. с англ. В. А. Володина, В. С. Першенкова, Б. И. Подле- пецкого под ред. А. В. Шальнова.- М.: Мир, 1985.- 496 с.

7. Валиев К. А., Великов Л. В., Вернер В, Д., Раков
А. В. Субмикронная контактная литография с трафаретными шабло- нами.- Электронная промышленность, 1983, № 1, с. 36-38.

8. Валиев К. А., Великов Л. В., Душенков С. Д. и др. Эффект фото- травления полимеров под действием вакуумного ультрафиолета. - Письма в
ЖТФ, 1982, т. 8, вып. 1, с. 33-36.

9. Валиев К. А., Великов Л. В., Душенков С. Д., Махмутов Р. Х.,
Устинов Н. Ю. Новый метод исследования разрешающей способ- ности электроно - резистов с помощью субмикронной маски- шаблона, находящейся в контакте с резистом // Микроэлектро- ника.- 1982.-Т.II.-
Вып. 5.-С.447-450.

10. Валиев К. А., Кириллов А. Н., Ковтун Б. Н., Махвиладзе Т. М.,
Мкртчян М. М. Оптимизационный метод коррекции эффекта близости в электронной литографии // Микроэлектроника.- 1987, - Т.6, - С.122-
130.

11. Валиев К. А., Махвиладзе Т. М., Раков А. В. Кинетика процесса безрезистной литографии// Микроэлектроника.- 1986.- Т. 15, вып.

5.- С. 392-397.

12. Виноградов А. В., Зорев Н. Н. Проекционная рентгеновская литография.-Препринт / ФИАН СССР.-М., 1987.- № 104.- С. 1-35.

13. Деркач В. П., Кухарчук М. С. Электронная литография как эффективное средство для освоения субмикронных размеров элементов БИС. -Микроэлектроника, 1980, т. 9, вып. 6, с. 498-516.

14. Деркач В. П., Мержвинский А. А., Старикова Л. В. Метод коррек- ции эффекта близости в электронной литографии // Микро- электроника.- 1985 .-Т.14, вып. 6.-С.467-477.

15. Котлецов Б. Н. Микроизображения. Оптические методы получе- ния и контроля.- Л.: Машиностроение, 1985.- 240 с.

16. Никитин А. В., Никитина М. А., Сурис Р. А. Формирование изображения оптической системой в проекционной фотолитогра- фии. -
Электронная промышленность, 1980, № 5, с. 27-32.

17. Попов В. К., Ячменев С. Н. Расчет и проектирование устройств электронной и ионной литографии.-М.:Радио и связь,1985. -128 с.

18. Селиванов Г. К., Мозжухин Д. Д., Грибов Б. Г. Электронно- и рентгеночувствительные резисты в современной микроэлектро- нике //
Микроэлектроника.- 1980 .-Т. 9, вып. 6.-С. 517-539.

19. Тернов И. М., Михайлин В. В., Халилов В. Р. Синхронное излу- чение и его применение. - М.: Изд-во МГУ, 1980.- 276 с.

20. Уорд Р. Электронно-лучевая проекционная установка для созда- ния кристаллов СБИС с субмикронными элементами. - Электро- ника, 1981, т.
54, № 22, с. 52-60.

Нужно буровое оборудование? Купите буровое оборудование на сайте geomash.ru.


Скачали данный реферат: Елистрат, Легкодимов, Филипп, Schastlivcev, Bjalik, Martim'janov, Ija, Науменко.
Последние просмотренные рефераты на тему: первый реферат, реферат, онлайн решебник, оформление реферата.



Предыдущая страница реферата | 1  2  3  4  5

Поделитесь этой записью или добавьте в закладки