Туннелирование в микроэлектронике
Категория реферата: Рефераты по радиоэлектронике
Теги реферата: сочинение тарас, новшество
Добавил(а) на сайт: Чан.
Предыдущая страница реферата | 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 | Следующая страница реферата
Валентная х
х зона
Валентная
зона
d d’
а) б)
Рис. 2.6.1 Туннелирование электрона а) без изменения энергии; б) с поглощением фотона
Высота этого барьера равна ширине запрещённой зоны Eg, а его толщина d характеризуется выражением:
[pic],
(2.6.1) где [pic]- величина напряжённости электрического поля. Как видно, с увеличением величины электрического поля толщина барьера уменьшается, а, следовательно, исходя из формулы (1.12), где d=l, увеличивается вероятность туннелирования.
В присутствии электрического поля участие фотона с энергией h?, как видно из рис. 2.6.1б, эквивалентно уменьшению толщины барьера до величины:
[pic]
(2.6.2) и туннельный переход становится ещё более вероятным. Уменьшение толщины барьера равносильно уменьшению ширины запрещённой зоны в сильном электрическом поле. Эффект туннелирования в присутствии электрического поля, сопровождаемый поглощением фотона, называется эффектом Франца
Келдыша. В собственном полупроводнике он проявляется как сдвиг края полосы собственного поглощения в сторону меньших энергий. На рис. 2.6.2 показано изменение края полосы поглощения для GaAs при разной напряжённости поля.
ln?
10 _
8 _
6 _
4 _
2
1,47 1,48
1,49 1,50 1,51 h?, эВ
Рис. 2.6.2 Край поглощения GaAs при разной напряжённости электрического поля;
Сплошная линия - [pic]=0, штрихпунктирная - [pic]=30 кВ.
3. ТУННЕЛЬНЫЙ ДИОД
Предложенный в 1958 г. японским учёным Л. Ёсаки туннельный диод изго-
товляется из германия или арсенида галлия с высокой концентрацией примесей
(1019 — 1020 см-3 ), т. е. с очень малым удельным сопротивлением, в сотни или
Рекомендуем скачать другие рефераты по теме: книга изложение, стандарты реферата, скачати реферат на тему.
Предыдущая страница реферата | 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 | Следующая страница реферата